供應用于生產TCO玻璃的LPCVD

? 理想能源以開發(fā)半導體設備的嚴謹態(tài)度和精細工藝來設計制造太陽能光伏設備。自2010年3月成功開發(fā)出靠前臺LPCVD設備以來，理想能源的設備已經在客戶處平穩(wěn)運行至今。理想能源的設備具有以下特點 (加插圖1及插圖2)： ? ? 精細穩(wěn)定：所鍍氧化物薄膜厚度可在100-1700納米范圍內自由設定，膜厚均勻性低于10% ? ? 高產能：根據(jù)所鍍膜厚度不同，鍍膜節(jié)拍范圍40-170秒，設備有效工

2011-05-18 0