2.4錫液還原

　　由于錫槽中不可能完全避免氧和硫的滲入，為降低鋼化虹彩的等級，嘗試在錫液中加入還原性比錫強(qiáng)的元素如鐵、鍺等，使之優(yōu)先與氧和硫等雜質(zhì)反應(yīng)，同時把錫的氧化物還原成錫，降低玻璃下表面錫的滲入量和滲入高層度。朱利方研究認(rèn)為，加鐵控制玻璃鋼化虹彩，錫液中加入鐵的較佳含量控制在0.03%左右，生產(chǎn)出的玻璃鋼化虹彩等級低，增加或減少加鐵量，效果不理想。在研究中發(fā)現(xiàn)錫液中加入鐵會引起玻璃下表面微泡等其它缺點(diǎn)產(chǎn)生，實(shí)際使用過程中對加熱溫度、加鐵量及鐵的雜質(zhì)要嚴(yán)格控制。

　　另外還可以采用穩(wěn)定熔化工藝制度和成型工藝制度、控制玻璃中鈣含量、控制錫液的純度、盡量減小過渡輥臺處板下SO2用量、加大槽壓等方法減少對錫液的污染。

　　3、錫缺點(diǎn)治理的進(jìn)展

　　錫缺點(diǎn)治理的研究主要集中在錫槽密封等防止氧和硫的滲入，近期在研究中出現(xiàn)了改進(jìn)錫槽設(shè)計、錫液覆蓋及滲錫數(shù)值模擬技術(shù)的應(yīng)用，通過新技術(shù)工藝減少產(chǎn)生錫缺點(diǎn)。

　　3.1錫槽設(shè)計改進(jìn)

　　錫槽設(shè)計可根據(jù)浮法玻璃生產(chǎn)線實(shí)際情況進(jìn)行改進(jìn)，王曉紅在傳統(tǒng)浮法玻璃生產(chǎn)線錫槽入口端結(jié)構(gòu)特點(diǎn)的基礎(chǔ)上，提出新型的0-bay密封結(jié)構(gòu)，提高密封性能。該結(jié)構(gòu)在錫槽前端配有一套含微量氫氣的保護(hù)氣體系統(tǒng)，形成一高壓氣幕增強(qiáng)槽內(nèi)前端壓力，可減少錫液污染，進(jìn)一步減少錫缺點(diǎn)的產(chǎn)生。采用新型結(jié)構(gòu)可以從錫槽前端的吹掃由1月一次改為2～3月一次，降低勞動強(qiáng)度的同時改善了錫槽工況。

　　3.2錫液覆蓋技術(shù)的應(yīng)用

　　錫槽中的錫液除玻璃帶覆蓋外，其它的暴露在高溫的錫槽中，減少錫液與槽內(nèi)保護(hù)氣體接觸，減少與氧、硫的反應(yīng)，也可降低產(chǎn)生錫缺點(diǎn)。日本旭硝子為解決錫槽空間錫的氧化揮發(fā)物掉落到玻璃上表面影響平板玻璃質(zhì)量，設(shè)計了將未被玻璃板覆蓋部分的熔融錫的上方的空間分隔為多個空間的分隔壁的方案。這樣熔融錫液暴露部分揮發(fā)的錫蒸汽因被氧化產(chǎn)生的氧化錫顆粒會聚集在分隔的空間中，不會掉落到熔融玻璃的上表面，提高了平板玻璃的產(chǎn)品質(zhì)量。東旭集團(tuán)有限公司設(shè)計了一種平板玻璃制造用錫槽結(jié)構(gòu)，通過在暴露的錫液上方增設(shè)石墨蓋板，避免錫液的揮發(fā)造成玻璃帶的污染，提高了成品合格率。錫液覆蓋一般采用石墨材料，在使用過程中，石墨蓋板的固定及快速更換需進(jìn)一步研究。

　　3.3模擬技術(shù)的應(yīng)用

　　模擬技術(shù)在浮法工藝中的應(yīng)用主要在熔窯方面，近年來，針對浮法玻璃滲錫量的研究逐漸增加。張勤在浮法玻璃生產(chǎn)過程中的滲錫機(jī)理的基礎(chǔ)上，建立了亞錫離子氧化模型，并對亞錫離子及錫粒子的擴(kuò)散過程進(jìn)行了耦合數(shù)值模擬，表明錫槽溫度制度對滲錫分布有明顯影響，通過優(yōu)化溫度制度可控制滲錫量和滲錫高層度。Wang等利用氧化層概念，在氧化層內(nèi)以附加擴(kuò)散系數(shù)的形式提高錫總擴(kuò)散系數(shù)，模擬SO2處理過程的滲錫分布。通過對滲錫量的模擬研究，優(yōu)化調(diào)節(jié)錫槽內(nèi)的邊界條件，起到事半功倍的效果。

　　4、結(jié)語

　　浮法工藝玻璃的錫缺點(diǎn)可以采用預(yù)防治理的方法進(jìn)行有效的控制，且隨著錫缺點(diǎn)治理新技術(shù)新工藝的應(yīng)用，可使錫缺點(diǎn)處在可控的范圍內(nèi)，加上浮法玻璃的產(chǎn)量及價格優(yōu)勢，浮法玻璃會進(jìn)一步提高市場占有率。